Nano nitrure de silicium

Overview

Informations de base.

Numéro de modèle.	SY-368
Dureté	Superabrasif
Partition	15um 20um 45um
Forfait Transport	Tambour/Baril
spécification	25kg
Marque déposée	SUOYI
Origine	Chine
Code SH	2849200000
Capacité de production	50000t

Description du produit

Silicon Nitride Nano-Micron Powder Granulation Spraying Si3n4

Les matériaux céramiques en nitrure de silicium ont une stabilité thermique élevée, une forte résistance à l'oxydation et une précision dimensionnelle élevée des produits. Étant donné que le nitrure de silicium est un composé covalent avec une force de liaison élevée et peut former un film protecteur d'oxyde dans l'air, il présente également une bonne stabilité chimique. Il est oxydé et n'est pas infiltré ou corrodé par de nombreux métaux ou alliages en fusion tels que l'aluminium, le plomb, l'étain, l'argent, le laiton, le nickel, etc., mais peut être corrodé par des liquides en fusion tels que le magnésium, l'alliage nickel-chrome et acier inoxydable.
Les matériaux céramiques de nitrure de silicium peuvent être utilisés pour les composants techniques à haute température, les matériaux réfractaires avancés dans l'industrie métallurgique, les composants résistants à la corrosion et les composants d'étanchéité dans l'industrie chimique, les outils de coupe et les outils de coupe dans l'industrie de l'usinage, etc.
Étant donné que le nitrure de silicium peut former une liaison solide avec le carbure de silicium, l'oxyde d'aluminium, le dioxyde de thorium, le nitrure de bore, etc., il peut être utilisé comme matériau de liaison pour une modification avec différents rapports.
De plus, le nitrure de silicium peut également être utilisé dans les cellules solaires. Une fois le film de nitrure de silicium recouvert par la méthode PECVD, il peut non seulement être utilisé comme film antireflet pour réduire la réflexion de la lumière incidente, mais également, pendant le processus de dépôt du film de nitrure de silicium, les atomes d'hydrogène de la réaction Le produit entre dans le film de nitrure de silicium et la plaquette de silicium, joue le rôle de défauts de passivation. Le rapport atomique du nitrure de silicium au nitrure de silicium n'est pas ici strictement de 4:3, mais fluctue dans une certaine plage en fonction de différentes conditions de traitement, et les propriétés physiques du film correspondant à différents rapports atomiques sont différentes.

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